氨水加氧化剂清洗液：
在表面污物被氧化和刻蚀的同时也会发生MCP表面粗糙现象，造成MCP表面“发毛”和划道或路子等伤害，造成产品质量下降，因此应控制合适的温度和清洗时间，南通清洗机，并及时用水漂洗干净。
超级电容行业数年内将会克服技术壁垒、市场蓬勃发展。
超级电容具有功率密度高、充放电时间短、循环寿命长、工作温度范围宽、无污染的优点，材料构成、生产、使用、储存以及拆解过程均没有污染，是理想的绿色环保电源；但是，超级电容存在技术壁垒，比如能量密度小、内阻大等等；基本都与下面阐述的超级电容制造工序真空干燥工艺直接相关。
2006年美国MAXWELL找到了TIME，就开发全工序全自动的真空干燥系统，双方一拍即合；同时TIME承诺保密到2010年。
TIME一年半后开发出样机，用3年为MAXWELL装备了·条全自动超级电容真空干燥线。（·）
在国家科技部、深圳市·的技术创新资金支持下， TIME在2009年12月取得了全自动超级电容真空干燥线6个相关证书；2011年初，又为MAXWELL装备了第二条全自动超级电容真空干燥线。（第二代）
根据超级电容的设计生产能力，标准配置也可以进行调整，设备数量因产量而增加或减少。
全自动超级电容真空干燥系统系统特点：
在各单个制备工序以及在从一道工序转移到下一道工序的过程中完全实现真空环境；
高真空度、高工作温度、高温度均匀度、技术参数全程·、自动化控制。
全自动超级电容真空干燥系统优势：
真空干燥时间可达3-4小时，比传统工艺24-36小时数倍缩短，生产效率数倍提高；
制备全过程高真空环境，高工作温度，高温度均匀度
有效排除超级电容CELL内部水、气、杂质的影响；
从而提高CELL功率密度，降低CELL内阻，改善CELL高频特性；
极大地提升了超级电容CELL和MODULES的一致性及使用寿命等技术参数。
清洗设备在主要清洗物质依制程不同而清除对象而有所差异，Wet Station主要清除物质为污染微粒、Organic与MetalIon、NativeOxide等。而单晶圆设备则对污染微粒与金属有较佳的去除效果。然而，随着半导体厂着重于缩短时间、降低成本、更好的制程表现、低污染与低耗能等诉求，半导体清洗机，目前各大设备厂也不断以单芯片清洗设备为主要研发机种。
清洗方式
工业清洗一般可按照以下三种方式进行分类：
1．按照清洗精度的要求不同，主要分为一般工业清洗，精密工业清洗和超精密工业清洗三大类。
一般工业清洗包括车辆，半导体清洗设备，轮船、飞机表面的清洗，一般只能去掉比较粗大的污垢；
精密工业清洗包括各种产品加工生产过程中的清洗，各种材料及设备表面的清洗等，以能够去除微小的污垢粒子为特点；
超精密清洗包括精密工业生产过程中对机械零件、电子元件，光学部件等的超精密清洗，以清除极微小污垢颗粒为目的。
2．根据清洗方法的不同，也可以分为物理清洗和化学清洗：利用力学、声学、光学，腐蚀清洗机，电学、热学的原理，依靠外来能量的作用，如机械摩擦、超声波、负压、高压．)中击。紫外线、蒸汽等去除物体表面污垢的方法叫物理清洗；依靠化学反应的作用，利用化学药品或其它溶剂清除物体表面污垢的方法叫化学清洗．如用各种无机或有机酸去除物体表面的锈迹、水垢，用氧化剂去除物体表面的污渍，用杀菌剂。消毒剂杀灭微生物并去除霉斑等．物理清洗和化学清洗都存在着各自的优缺点，又具有很好的互补性。在实际应用过程中，通常都是把两者结合起来使用，以获得更好的清洗效果。
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