




用刻蚀步骤,对暴露在外的材质进行去除,留下晶圆所需要的材质和附着在其上的光刻胶,再将光刻胶通过刻蚀去除。此后多次重复上述步骤,碱腐蚀设备,得到构造复杂的集成电路。刻蚀的材质包括硅及硅化物、氧化硅、氮化硅、金属及合金、光刻胶等。通过有针对性的对特定材质进行刻蚀,才能使得晶圆制造不同的步骤所制造的电路之间相互影响,使芯片产品具有良好的性能。
面板显示使用的是玻璃基板作为电路的载体,所有的膜质以及对膜质光刻后的图形都是依附在玻璃基板上。在每次成膜或者光刻前都要对玻璃基板表面进行深入清洁,玻璃基板是在无尘车间里运行,还是会存在各种异物(particle):无机类异物和有机类异物,清洗设备的较大作用就是去除表面的异物,来提升产品的整体良率。
注意事项
1·当操作高压清洗机时:始终需戴适当的护目镜,手套和面具。
2·始终让保持手和脚不接触清洗喷嘴。
3·经常要检查所有的电接头。
4·经常检查所有的液体。
5·经常检查软管是否有裂缝和泄漏处。
6·当未使用时,总是需将设置处于安全锁定状态。
7·总是尽可能地使用*低压力来工作,但这个压力要能足以完成工作。
8·在断开软管连接之前,总是要先释放掉清洗机里的压力。
9·每次使用后总是要排干净软管里的水。
10·决不要将设备对着自己或其他人。
11·在检查所有软管接头都已在原位锁定之前,南昌碱,决不要启动设备。
12·在接通供应水并让适当的水流过之前,碱腐蚀清洗设备,决不要启动设备。将所需要的清洗喷嘴连接到喷杆上。
注意:不要让高压清洗机在运转过程中处于无人监管的状态。每次当你释放时泵将运转在旁路模式下,碱腐蚀清洗机,如果一个泵已经在旁路模式下运转了较长时间后,泵里循环水的过高温度将缩短泵的使用寿命甚至损坏泵。应避免使设备长时间运行在旁路模式。
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