纳米材料SEM形貌测量及粒径分析
扫描电镜的衬度主要有表面形貌衬度和原子序数衬度。
本期给介绍一下表面形貌衬度的原理以及应用一~
一、二次电子成像原理
二次电子信号主要用于分析样品的表面形貌。二次电子只能从样品表面层5-10nm深度范围内被入射电子束激发出来,大于10nm时,入射电子也能是核外电子脱离原子而变成自由电子,但因其能量较低以及平均自由程较短,不能逸出样品表面,Zui终只能被样品吸收。
被入射电子束激发出的二次电子数量和原子序数没有明显的关系,二次电子对微区表面的几何形状十分敏感。
二、二次电子成像衬度的应用
二次电子形貌衬度的Zui大用途是观察断口形貌,也可用作抛光腐蚀后的金相表面及烧结样品的自然表面分析,并可用于断裂过程的动态原位观察。
01.断口分析
1.沿晶断口