酸碱洗槽清洗机
用于晶片或其他被洗工件的酸碱洗腐蚀,
控制模式: 手动控制模式 自动控制模式,
清洗能力:2-8英寸晶片或其他被洗工件。
需甲方提供花篮或我司设计篮具。
设备形式: 室内放置型。
洁净度:千级洁净室 。
工艺说明:手动方式实现放片(工件),取片(工件),槽体间传送片。
工艺参数(温度,时间,DI水清洗流量,时间)手动设定。
酸碱洗槽清洗机
用于晶片或其他被洗工件的酸碱洗腐蚀,
控制模式: 手动控制模式 自动控制模式,
清洗能力:2-8英寸晶片或其他被洗工件。
需甲方提供花篮或我司设计篮具。
设备形式: 室内放置型。
洁净度:千级洁净室 。
工艺说明:手动方式实现放片(工件),取片(工件),槽体间传送片。
工艺参数(温度,时间,DI水清洗流量,时间)手动设定。
法定代表人 | 王海龙 | ||
注册资本 | 100万元人民币 | ||
登记机关 | 苏州工业园区市场监督管理局 | ||
主营产品 | RCA清洗机,金属腐蚀清洗机,二氧化硅腐蚀机,多晶腐蚀清洗机,铝腐蚀机,去胶清洗机,酸/碱腐蚀机,无机腐蚀机,有机清洗机,显影清洗机,石英管清洗机,高温腐蚀清洗机,单片清洗机 | ||
经营范围 | 研发、销售:半导体、集成电路设备、清洗设备、真空设备、太阳能光伏设备、电子配件、五金配件、机械配件,并从事上述产品及技术的进出口业务。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动) | ||
公司简介 | 苏州晶淼半导体设备有限公司位于苏州工业园区,致力于半导体集成电路、光电子器件、分立器件、传感器和光通信、LED等行业,中高端湿法腐蚀、清洗设备、CDS集中供液系统、通风柜/厨等一站式的解决方案的高新技术企业。公司与中科院纳米所、硅酸盐研究所、上海微系统所等多个国家级重点实验室,在半导体湿法设备研发生产方面建立了深度合作关系。核心技术人员,在欧美半导体湿制程设备领域拥有多年从业经验。生产、检测拥有先 ... |