公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
菲林特点及适用用途菲林特点及适用用途...内鼓结构，保证套位准确;单光源成像，保证网点准确、均匀，密度稳定，可输出各种网点形状（圆形网点、方形网点、方圆混合网点等），各种网线（10-625线）。适合彩色胶版印刷、树脂版印刷丝网印刷、移印转印等多种用途。
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光刻和刻蚀有什么区别？
这两个词是半导体工艺中的重要步骤，需要配合剖面图讲解，Zuii好自己找本半导体工艺的书看。
“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。
“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。
在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，制版，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。
用选定的图像、图形或物体，对处理的图像（全部或局部）进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程。用于覆盖的特定图像或物体称为掩模或模板。光学图像处理中，掩模可以是胶片、滤光片等。数字图像处理中，掩模为二维矩阵数组，有时也用多值图像。
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