公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
光罩(英文:Reticle,Mask),在制作IC的过程中,利用光蚀刻技术,在半导体上形成图型,为将图型复i制於晶圆上,必须透过光罩作用的原理,类似于冲洗照片时,利用底片将影像复i制至相片上。
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Reticle也称为Mask,翻译做光掩模板或者光罩,曝光过程中的原始图形的载体,通过曝光过程,这些图形的信息将被传递到芯片上。制造芯片时用.我们公司做的掩膜版,一般是根据客户的要求做的,客户提供图纸我们加工
什么是光刻掩模板
在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精i确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构,称为光刻掩模版。
半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺,在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套(几块多至十几块)相互间能精i确套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。
苏州制版-湖州掩膜版由苏州微麦光电有限公司提供。苏州制版-湖州掩膜版是苏州微麦光电有限公司(www.szphotomask.com)今年全新升级推出的,以上图片仅供参考,请您拨打本页面或图片上的联系电话,索取联系人:叶佳。